这可是上亿美元的大单呀！！
木村真琴卖出去的那只脚硬生生的收了回来，他几乎没有任何犹豫，就重新做到了黄鹤对面，然后主动低头道“黄桑，请原谅我刚才的失礼，你应该能够理解我的态度的，非常抱歉！”
堂堂的尼康社长木村真琴，居然就这么非常干脆的向黄鹤道歉了，这简直是一件看上去非常不可思议的事情，毕竟韩国人折腾了几十年的时间，都没有换来日本人的一句道歉，结果木村真琴现在就非常干脆的道歉了。
这里就必须要提到日本人的两面性了，在日本，道歉是最简单也是最困难的事情，在不涉及利益，或者要损失利益的情况下，你让日本人道歉是绝对不可能的，你就算愤怒的把他的大使馆给砸了，那也是不可能的。
但是相反，如果一个道歉能够带来巨大的利益的话，那他就会立刻找来蒲团，跪在上面，恭恭敬敬的向你道歉。
木村真琴大概就是这样的情况，且不说阿斯麦的事情，如果十台光刻机是真的，那木村真琴无论如何道歉，也要把黄鹤这个客户给笼络到手中的。
“日本人能够成功，果然不是没有原因的！”黄鹤感叹一声，然后接着说道“既然木村社长的态度如此诚恳，那我也不跟您弯弯绕绕了，我直接说吧，阿斯麦已经得到了跨越50纳米的技术极限的钥匙了，最迟两年的时间，阿斯麦的第1台48纳米级别的光刻机就能够上市。”
“这不可能！”木村真琴又一次高呼出了不可能三个字，但这一回他脑门上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在这一瞬间被汗水给浸透了。
50纳米的技术极限，这是全球捆在所有光刻机企业脖子上的绳索，自从10年前到达这个极限之后，无论是尼康还是佳能，几乎每年都要投入1－2亿美元的巨额资金来研发突破这个极限的途径。
为了突破这个极限，全球各个光刻机行业的专家们提出了几种途径，其中包括157n f2激光，电子束投射，离子投射、euv和x光，并形成了以下几大阵营：
其中f2激光技术，这是目前在理论和技术上最为成熟的阵营，在浸润式光刻机出现之前，几乎所有的光刻机企业研究的都是这个技术，目前是美国的svg和日本的尼康，在这两个技术上走的最远，尤其是尼康，他们估计再有个5年左右的时间，就能够拿出最终的产品出来了。
但是这个技术有一个巨大的缺陷，那就是生产成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且这个技术的天花板，也就是从50纳米提高到了40纳米左右，提升的幅度只有20％，是典型的投入和产出相差极大的案例。
如果用这种办法制造出来的芯片，最早是现在同等级芯片的价格的三倍以上，如果投放到市场上，他未来所有顶级芯片的旗舰手机的起步价格，就最少要提交2000元人民币左右了。
但这依然是目前最有可能成功的技术。
euv技术，这是技术前景最为光明的，但也是最困难的技术，因为这个技术要从直接改革光源入手，将目前的光刻机光源改革成为紫光，直接从光源上，把50纳米的极限提升到135纳米的极限，提升幅度可谓巨大，绝对是市场前景最为广阔的技术。
这个技术难度极高不说，关键是几乎所有的专利和门槛都掌握在美国人的手里面，分布在英特尔，ad，摩托罗拉和美国能源部这些单位之中，尼康手里面几乎没有这方面任何的技术专利。
本来作为美国的小老弟，以前的日本或许还有机会加入到这样的专利联盟手中，但是自从花园广场协议一签，所有日本人都知道美国是打定了主意要打压日本的半导体行业，他们是绝不可能允许日本企业进入到euv技术联盟之中的，否则花园广场协议就白签了。
这里就不得不说一句，其实美国是一家，非常公平和公正的国家，对于能够威胁到自己技术优势的对手，他们会立刻打压。
同样的，如果是自己的狗威胁到了自己的技术优势，那也是一样要打压的。
比如在90年代后期，日本的半导体行业几乎已经要将美国的半导体行业给彻底撕碎了，他们占据了90％以上的市场。
结果花园广场协议一签，日本半导体行业瞬间崩溃，等到了2020年，日本的半导体行业连苟延传统的资格都没有了，直接就变成了一具尸体，而日本政府却只能对美国唯唯诺诺，连一句反对的声音都听不到。
不像中国，来，大家正面干。
咳咳，言归正传，其实在技术上还有一个比euv更加梦幻的技术，叫做接近式x光技术，这个技术可以将光源从135纳米，一口气提升到一纳米的水平，这是显然是一个更加疯狂的光刻机技术。
而这也是目前整个日本光刻机行业倾力投入的技术，他们梦想着一旦等这个技术开花结果，那就算是euv再怎么排斥日本也是抓瞎，因为大家根本就不在一个水平面上面了。
只不过，倪光南曾经非常形象的形容过这个技术阵营，说这是
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